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【48812】依据面投影微立体光刻技能(PμSL)的3D打印

发布时间:2024-07-14 04:04:20 文章来源:m6米乐网页版登录入口 点击次数:1

  )是一种面投影光固化3D打印技能,适用于制作微标准的杂乱三维结构,有着高分辩率、高精度、跨标准加工、适用资料广、加工效率高、加工成本低一级许多特色。本文将从成型原理、最小加工特征标准、最大成型幅面、适配打印资料、与其他3D打印技能的比照、产业化技能立异等方面,对这一技能进行具体介绍。

  接着运用切片软件对三维模型以必定巨细的层厚进行切片处理,得到一系列具有特定图画的二维图片;然后选用PμSL 3D打印体系对切片后的每一层图画进行整面投影曝光;重复重复上一过程并层层堆叠终究成型出所需的三维结构。

  如图3所示,切片后的模型数据导入到打印体系后,这些二维图画数据发送至DMD,DMD依据图画数据操控芯片上各个微镜(即DMD上的每一像素点)的偏转。因而,光源宣布的紫外光在抵达DMD后将从头整形生成与图形数据相同的光。终究,经调制后的光经过终究物镜投影至液态树脂资料外表,对特定区域进行选择性曝光然后生成特定结构。此外,打印体系还可经过打印渠道的移动,拼接打印出大幅面的图形结构。

  深圳摩方资料科技有限公司(以下简称“摩方”)依据在这一技能领域的多年堆积,自主研宣布了一系列PμSL3D打印体系,现已量产的产品最高光学分辩率可达2 μm(这儿说到的光学分辩率是指投影光单个像素点的巨细)。凭借这一高分辩体系,2 μm线 μm杆径三维点阵得以完成(图4)。

  因而,正常的情况下,PμSL 3D打印体系的最大成型幅面取决于光学分辩率巨细以及DMD像素点数量,DMD成像芯片标准固定,经过投影镜头只能完成固定的投影幅面。最大成型幅面与体系光学分辩率呈对立联系,即当进步体系光学分辩率时,其最大成型幅面相应减小。拼接技能很好地处理了这一对立,使得高分辩、大幅面、跨标准打印得以完成。以摩方PμSL3D打印体系为例,固定投影打印与拼接打印的幅面如表1所示。

  针对不同使用需求,硬性树脂、耐性树脂、耐高温树脂、生物兼容性树脂、柔性树脂、通明树脂、水凝胶等许多树脂资料已商业化。除上述纯树脂资料以外,功用颗粒掺入树脂中构成的复合树脂资料相同可用于打印,如磁性颗粒复合树脂、陶瓷颗粒复合树脂、金属颗粒复合树脂等。

  熔融堆积成型和聚合物喷发光固化是现在较广泛的两种3D打印技能,可完成大标准结构的加工成型,但其精度比较来说较低。激光逐点扫描光固化和双光子激光直写技能则可完成十分高的分辩率,但是逐点扫描加工的特性极大地约束了其成型速度。此外,双光子激光直写技能的成型标准通常在毫米级。相较而言,PμSL3D打印技能很好地平衡了高精度、高速度、大幅面的特色。

  深圳摩方资料科技有限公司在这一技能的产业化进步行了许多工业级技能立异,例如添加气泡消除体系、激光测距、加热打印等立异功用,用以进一步提高打印质量、精细操控加工公役、拓展打印资料的规模,以满意精细工业规划和制作的需求。

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